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硅提高水稻抗镉毒害机制的研究
通过水培试验,主要从硅对镉的分布、镉的化学形态和过氧化物酶活性的影响以及与硅结合蛋白的关系等方面研究了硅减轻镉毒害的机制.结果表明,施硅能显著抑制镉向地上部的运输,使质外体运输途径的运输量减少了36%;加硅也降低了质外体中不同形态镉的.含量,特别是结合态的镉;施硅显著降低了镉毒害所诱导的过氧化物酶活性,这说明加硅缓解了高浓度镉对水稻的毒害作用:免疫细胞化学定位显示硅结合蛋白主要分布在水稻根系表皮下的纤维层细胞及内皮层细胞附近,此部位是硅积累的主要部位,也是离子在质外体运输的关键入口,这从分子水平上解释了加硅可降低质外体途径的运输量.
作 者：史新慧 王贺 张福锁 SHI Xin-hui WANG He ZHANG Fu-suo 作者单位：中国农业大学资源与环境学院植物营养系,植物-土壤相互作用教育部重点实验室,北京,100094 刊 名：农业环境科学学报 ISTIC PKU英文刊名：JOURNAL OF AGRO-ENVIRONMENT SCIENCE 年，卷(期)： 25(5) 分类号：Q945.78 关键词：镉 细胞化学定位 PTS 水稻 硅 硅结合蛋白硅缓解小麦镉毒害的效应研究
采用水培试验研究了不同Si,Cd水平下,小麦幼苗生长及Cd在小麦幼苗体内积累的变化.结果表明,营养液中加入硅可缓解小麦幼苗的镉毒害症状,增加小麦的生物量.提高溶液中的Si浓度可降低小麦根、茎、叶的`Cd含量,降低幅度为叶＞茎＞根,营养液中的Si水平愈高,小麦Cd含量降低程度愈大,但高Cd水平下Si的作用减弱.从整株看,Si能减少小麦镉的积累量,且能抑制低镉处理(0,5 μmol/L)下Cd向地上部运转,但高Cd条件下Si的抑制作用亦减弱,当营养液中的Cd浓度为10μmol/L时,Si有促进Cd向小麦地上部运转的趋势.
作 者：陈秀芳 赵秀兰 夏章菊 佟振峰 CHEN Xiu-fang ZHAO Xiu-lan XIA Zhang-ju TONG Zhen-feng 作者单位：西南农业大学,资源与环境学院,重庆市农业资源与环境重点实验室,重庆400716 刊 名：西南农业大学学报（自然科学版） ISTIC PKU英文刊名：JOURNAL OF SOUTHWEST AGRICULTURAL UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE) 年，卷(期)： 27(4) 分类号：X503.231 关键词：小麦 硅 镉积累硅对镉胁迫下水稻幼苗体内镉分布规律的研究
采用溶液培养,研究不同浓度(0、30、80、130、180 mg/L)的SiO_2在4.0 mg/L CdCl_2浓度胁迫下对水稻幼苗体内镉(Cd)的分布规律.结果表明,在Cd胁迫下Si降低了水稻幼苗根、茎、叶、鞘、共质体和质外体Cd含量,其分布规律为:根＞茎叶＞茎鞘＞叶片,呈现出末端分布规律.说明Si促使大量的Cd累积在根中,根是Cd累积的`主要部位,而茎、叶中Cd累积量较少.可见,Si可抑制水稻体内Cd由地下部分向地上部分运输,且能抑制地上部分Cd向叶片运输,并能减少Cd进入共质体.
作 者：黄秋婵 韦友欢 吴颖珍 HUANG Qiu-chan WEI You-huan WU Ying-zhen 作者单位：广西民族师范学院化学与生物工程系,广西,崇左,532200 刊 名：湖北农业科学 ISTIC PKU英文刊名：HUBEI AGRICULTURAL SCIENCES 年，卷(期)：2010 49(2) 分类号：Q945.78 关键词：硅(Si) 镉(Cd)胁迫 水稻幼苗 分布规律 silicon(Si) cadmium(Cd) stress rice (Oryza sativa L.) seedling distribution regulation