MPCVD金刚石膜装置中 Ar的光谱特性分析

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MPCVD金刚石膜装置中 Ar的光谱特性分析

篇1:MPCVD金刚石膜装置中 Ar的光谱特性分析

MPCVD金刚石膜装置中 Ar的光谱特性分析

在MPCVD装置中,通过调节微波功率、气体流量及反应压强,使用高分辨率的多道光学分析仪采集得到Ar的`400~440 nm光谱,利用玻耳兹曼“斜率法”得到Ar激发温度Texc. 结果显示:随气体流量增加Texc降低;随着微波功率的增加Texc升高;谱线强度随着功率的增加而上升,在550 W及700 W处开始降低继而又上升,此点是制备金刚石膜的功率关键点.

作 者:杜康 徐伟 吴智量 DU Kang XU Wei WU Zhi-liang  作者单位:广州大学,物理与电子工程学院,广东,广州,510006 刊 名:物理实验  PKU英文刊名:PHYSICS EXPERIMENTATION 年,卷(期): 29(11) 分类号:O484 关键词:MPCVD   金刚石膜   发射光谱   激发温度   谱线强度  

篇2:直流等离子体法中脱膜开裂的金刚石膜组织结构分析

直流等离子体法中脱膜开裂的金刚石膜组织结构分析

为了解决用直流等离子体喷射法制备金刚石膜在脱膜过程中膜体开裂的问题,本文对3组脱膜开裂的'金刚石膜组织结构进行了分析,发现由热应力作用产生的裂纹形貌随沉积温度的不同而呈现网状、河流状和环状,裂纹尖端的膜体具有最小的Raman 谱峰半高宽值.在所研究的温度范围内,膜体断口都是穿晶断裂和沿晶断裂的混合断口,而且断口面中的占优晶面都是{111}晶面.X射线和Raman谱结果还表明沉积温度愈高,膜体中的残余应力愈大.

作 者:陈广超 李成明 张恒大 杨胶溪 佟玉梅 唐伟忠 吕反修  作者单位:北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083 刊 名:人工晶体学报  ISTIC EI PKU英文刊名:JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS 年,卷(期): 32(5) 分类号:O484 关键词:金刚石膜   裂纹   组织   晶面   直流等离子体喷射  

篇3:杨氏双缝干涉实验中光谱奇异现象的特性分析

杨氏双缝干涉实验中光谱奇异现象的特性分析

研究了完全相干光和部分相干光分别照射双缝时,杨氏双缝干涉实验中干涉场区的光谱变化现象.根据干涉场中光谱标准矩定义了光谱的相对光谱移动和相对光谱增宽,并利用相对光谱位移和相对光谱增宽分析了光谱奇异现象的特性.研究结果表明,入射光的'某些光谱参量(如源光谱宽度Γ0,中心拦截比∈,相对空间相干度△0)对相对光谱增宽的影响相当大.结果还表明了光谱标准矩方法是定量研究光在传输中的光谱变化以及光谱奇异现象的有效工具.

作 者:陈子阳 蒲继雄 CHEN Zi-yang PU Ji-xiong  作者单位:华侨大学,电子科学与技术系,光学与光子学研究所,泉州,362021 刊 名:光子学报  ISTIC PKU英文刊名:ACTA PHOTONICA SINICA 年,卷(期):2007 36(4) 分类号:O433 关键词:物理光学   杨氏双缝干涉实验   相对光谱增宽   光谱奇异现象  

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MPCVD金刚石膜装置中 Ar的光谱特性分析(共3篇)

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